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重磅！美國造出0.7nm芯片
眾所周知，目前5nm及以下的尖端半導體制程必須要用到價格極其高昂的EUV光刻機，ASML是全球唯一的供應商。更為尖端2nm制程的則需要用到ASML新一代0.55 NA EUV光刻機，售價或高達4億美元。但是，要想實現1nm以下的更先進的制程，即便是ASML新一代0.55 NA EUV光刻機也束手無策。當ASML的EUV光刻機還在為制造2nm、1nm芯片發愁的時候，美國一家公司卻在另一個先進光刻方向上取得了突破，Zyvex使用電子束光刻技術制造了768皮米，也就是0.7nm的芯片，這種芯片可用于量子計算機。旨在開發和商業化原子精密制造 (APM) 技術的公司Zyvex Labs，近日宣布推出了全球分辨率最高的亞納米分辨率光刻系統“ZyvexLitho1”，其并沒有采用EUV光刻技術，而是基于STM掃描隧道顯微鏡，使用的是電子束光刻（EBL）方式，可以制造出具有0.768nm線寬的芯片，精度遠超EUV光刻機，相當于2個硅原子的寬度，是當前制造精度最高的光刻系統。這個光刻機制造出來的芯片主要是用于量子計算機，可以制造出高精度的固態量子器件，以及納米器件及材料，對量子計算機來說精度非常重要。ZyvexLitho1不僅是精度最高的電子束光刻機，而且還是可以商用的。根據Zyvex Labs官網介紹，Zyvex公司已經可以接受其他人的訂單，機器可以在6個月內出貨。據悉，ZvyvexLitho1將會有標準版和高級版兩個不同版本，具體售價未知。雖然EBL電子束光刻機的精度可以輕松超過EUV光刻機，然而這種技術的缺點也很明顯，那就是產量很低，無法大規模制造芯片，只適合制作那些小批量的高精度芯片或者器件，指望它們取代EUV光刻機也不現實。
來源： 半導體行業圈
第五屆全球半導體產業（重慶）博覽會
時間：2023年5月10-12日
地點：重慶國際博覽中心
為進一步推動重慶及中西部地區半導體產業高質量創新發展，發揮成渝雙城經濟圈產業優勢，挖掘西部半導體市場發展機遇，第五屆全球半導體產業（重慶）博覽會將以“集智創芯、共塑未來”為主題，規劃展出面積25000平方米, 預計吸引350家知名企業參與，20000名專業觀眾到場參觀洽談。
博覽會聚焦半導體產業核心技術及發展趨勢，擬設“IC設計、集成電路制造、封裝測試、半導體材料、設備制造、電子元器件、AI+5G、智慧電源、綜合展”等主題專區，專業呈現半導體產業最新技術成果，檢索更多智能應用領域創新案例，搭建專業高端的產業生態交流合作平臺。
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